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　　膜厚測試儀，是通過一次X射線穿透金屬元素樣品時·產生低能量的光子，俗稱為二次熒光，,在通過計算二次熒光的能量來計算厚度值。

　　膜厚測試儀采用磁感應原理時，利用從測頭經過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。覆層越厚，則磁阻越大，磁通越小。利用磁感應原理的測厚儀，原則上可以有導磁基體上的非導磁覆層厚度。一般要求基材導磁率在500以上。如果覆層材料也有磁性，則要求與基材的導磁率之差足夠大（如鋼上鍍鎳）。當軟芯上繞著線圈的測頭放在被測樣本上時，儀器自動輸出測試電流或測試信號。早期的產品采用指針式表頭，測量感應電動勢的大小，儀器將該信號放大后來指示覆層厚度。電路設計引入穩頻、鎖相、溫度補償等地新技術，利用磁阻來調制測量信號。還采用專里設計的集成電路，引入微機，使測量精度和重現性有了大幅度的提高（幾乎達一個數量級）?，F代的磁感應測厚儀，分辨率達到0.1um，允許誤差達1%，量程達10mm。